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直讀光譜儀內部氬氣的重要作用
我們將在下面為大家仔細說(shuō)一下關(guān)于直讀光譜儀內部氬氣的重要作用。
氬氣的流量和壓力決定Ar氣對放電表面的沖擊力,必須適當。若沖擊能力低,即不足以將試樣激發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生的氧和它形成氧化物沖掉,則這些氧化物必定凝集在樣品表面及電極上,抑制試樣的繼續蒸發(fā),這種現象靠中心區愈嚴重。只有當氬氣的沖擊能力足以洗除氧和電極上的凝集物,同時(shí)又不至于使火花產(chǎn)生跳動(dòng)時(shí),才是最佳狀態(tài)。
氬氣不純,含有過(guò)量氧含量,凝集在電極上的氧化物多,譜線(xiàn)強度降低,使氬火花放電不穩定。水蒸汽和C02一樣,在高溫下可能分解出氧氣。因此水蒸汽和C02均不允許含量過(guò)大。碳過(guò)多,對含碳量較少的試樣的分析精度有直接影響。
為了提高氬火花的穩定性,必須對氬氣進(jìn)行凈化處理??梢栽诠骞艿郎霞由弦粋€(gè)盛分子篩的容器,用以吸附氬氣中的水分及復雜氣體,使氬氣干燥和凈化。分子篩吸附的物質(zhì)可以用加熱的辦法去除。去除吸附物后的分子篩又恢復了吸附能力,還可以重復循環(huán)使用。也可以用條狀的氫氧化鉀去掉氬氣中的二氧化碳,也可以用鎂爐(在管道容器中裝入金屬鎂屑),爐子溫度400-600C,氬氣通過(guò)鎂爐后可以除去氧。經(jīng)過(guò)凈化裝置處理后的氬氣,就能滿(mǎn)足分析要求了。
氬氣減壓閥
為了避免空氣對氬氣管道的污染而降低氬氣純度,因此,平時(shí)不做分析時(shí),常規光譜儀氬氣管道中也保持0.5-1升/分鐘的氬氣流量,稱(chēng)之謂靜態(tài)氬沖洗火花室。因此操作者要注意找一塊樣品始終蓋住極板孔,進(jìn)行分析需換磨樣品時(shí),要求操作迅速,以免盡量減少空氣進(jìn)入火花室。
氬氣系統由氬氣控制電路、電磁閥,氣流控制閥等組成,氣流量的分配根據激發(fā)過(guò)程的需要,由程序設定,各閥門(mén)己由制造廠(chǎng)設定,用戶(hù)不需要單獨調整,只需提供0.3MPa的氣源即可。
氬氣進(jìn)入火花室有一條通道,從聚光鏡前面下方進(jìn)入火花室,這樣就比較徹底地沖凈光線(xiàn)通過(guò)處空間的空氣,又可以阻止激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的粉塵對聚光鏡的污染。
氬氣流量分配為:①惰性流量(待機狀態(tài))為0.5升/分,此時(shí)電磁閥門(mén)關(guān)閉,氬氣經(jīng)過(guò)固定氣流控制閥保持其恒定值。OBLF公司的光譜儀在常規分析狀態(tài)下,靜態(tài)氬流量為零。②大流量沖洗,目的是沖擊更換樣品時(shí)帶進(jìn)的空氣。此時(shí)電磁閥全開(kāi),保持流量為5-6升/分。③激發(fā)狀態(tài)。中間路電磁閥關(guān)閉,另一路與常流量合成3-5升/分流量,維持正常激發(fā)。當激發(fā)停止,兩閥關(guān)閉,又進(jìn)入待機狀態(tài)。